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一项旨在提升半导体制造核心环节——薄膜沉积工艺洁净度的新技术专利,近日由京东方华灿光电(苏州)有限公司提出申请。国家知识产权局公开信息显示,这项名为“反应腔室及半导体沉积设备”的专利(公开号CN121896608A),其核心设计目标直指业界长期关注的颗粒污染控制难题。
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